1． 描述
spinTron是一种圆形的磁控溅射枪（4英寸。它可以支持多种溅射靶，包括金属靶，绝缘靶，磁性的或非磁性的溅射靶。它内部的磁路设计利用了圆形的稀土永磁NdFeB材料，从而产生良好的薄膜平整度和靶材利用率。Spintron 3 易于安装，使用和维护。 高质量的制作工艺保证长时间的工作寿命。 高效的防震的包装设计允许安全的运输和储存

2． 特点
o 高质量的制作工艺
SpinTron 溅射枪系列的设计和制造注重细节。 我们选用高质量的不锈钢和陶瓷材料。材料元件的设计和选择是基于物理学和工程学原理。
o 磁路设计导致性能大幅度提高
我们利用电磁学有限元计算方法来设计永磁回路以期达到高磁场强度和均匀的磁场分布。 我们在每一个Spintron 系列中采用稀土永磁NdFeB，从而提供真正的磁控溅射工具。 永磁材料表面镀有多层保护材料，防止在水冷过程中被腐蚀。
o 与外界电源的紧密耦合
SpinTron产品配有标准的射频RF　连接头，它同大部分的直流和射频电源匹配。溅射枪具有很低的阻抗，易与同已有的外接电源连接使用
o 易于安装调试
SpinTron产品只需标准的法蓝连接头，而不需要特殊工具安装。 它在真空系统中的高度可以方便的调节，
o 易于更换溅射靶
更换靶材极为方便， 只需把靶放在阴极头上，把溅射靶的罩子放上，最后将溅射屏蔽罩摆上。 整个过程中无需任何调节
o 尺寸多样
SpinTron产品具有1，2，3，和4英寸的溅射源。 并且可以根据客户要求设计别的尺寸，同时保证与标准产品同样的性能。

o 易于维护
SpinTron产品易于维护，具有很长的工作寿命
o 面向客户的服务
我们保证产品的质量保证，对任何不良产品和产品安装进行负责保证。 产品维修期间尽可能的降低对客户科研生产的影响。

3． 应用
SpinTron磁控溅射源可以用于几乎是任何薄膜材料的制备， 下面是一些常见的应用
o 薄膜蒸镀
o 半导体器件
o 自旋电子学器件
o 磁记录材料
o 量子计算器件
o MEMS (微电子力学系统)
o 生物传感器
o 纳米技术
o 超晶格
o 颗粒膜
o 形状记忆合金
o 多种薄膜沉积
o 基于薄膜的激光技术

4． 技术参数